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奧坤鑫:淺談等離子體清洗的特點(diǎn)
2016.06.13
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  等離子體清洗的特點(diǎn):
 
  等離子體清洗采用氣體作為清洗介質(zhì),不存在使用液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。等離子體清洗機(jī)工作時(shí)真空清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時(shí)間的清洗就可以使污染物被徹底地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。
 
  等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是對(duì)幾乎所有的基材類型,均可進(jìn)行處理。對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚脂、聚丙烯、聚酰亞胺、環(huán)氧樹脂、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理。而組成PCB 材料的不外乎以上的幾種。而且等離子體清洗可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗,所以對(duì)PCB 的微切片任何形狀、結(jié)構(gòu)均可處理?!?a href="http://m.ycsyzs.com/">真空等離子設(shè)備
 
  等離子體清洗還具有以下幾個(gè)特點(diǎn):
 
  1、用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害;容易采用數(shù)字控制技術(shù),自動(dòng)化程度高;
 
  2、整個(gè)工藝流程效率極高;
 
  3、具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制的精度很高;
 
  4、且正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;
 
  5、由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。【卷對(duì)卷等離子處理設(shè)備

 
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