等離子體清洗采用氣體作為清洗介質(zhì)，不存在使用液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子體清洗機(jī)工作時(shí)真空清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使污染物被徹底地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。
就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
【真空等離子設(shè)備】典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。圖1 簡(jiǎn)單描述了等離子體清洗的機(jī)理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。通過(guò)等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫姡菀着c碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。
由于等離子體中的高能電子、離子、原子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)，令到固體表面受到化學(xué)轟擊及物理轟擊，在真空和瞬時(shí)高溫狀態(tài)下，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解、蒸發(fā)，污染物在各種高能量粒子的沖擊下被擊碎并被真空帶出，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)：如產(chǎn)生的紫外線具有很強(qiáng)的光能，可使附著在物體表面物質(zhì)的分子鍵發(fā)生斷裂而分解以達(dá)到降解污染物的目的。【卷對(duì)卷等離子處理設(shè)備】
