在微流控芯片制造領(lǐng)域，表面改性技術(shù)是提升芯片性能的核心環(huán)節(jié)。真空等離子清洗機(jī)憑借其高效、環(huán)保、無(wú)損的特點(diǎn)，成為實(shí)現(xiàn)芯片表面親水化、增強(qiáng)鍵合強(qiáng)度、去除污染物的關(guān)鍵設(shè)備。然而，關(guān)于其是否會(huì)對(duì)芯片材料造成損傷的爭(zhēng)議始終存在。
等離子處理僅作用于材料表面數(shù)納米至數(shù)十納米深度，遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)化學(xué)蝕刻或激光處理的穿透深度?；瘜W(xué)分析電子能譜（ESCA）和掃描電鏡（SEM）觀測(cè)顯示，處理后的PDMS芯片表面形貌與未處理樣品無(wú)顯著差異，僅表面化學(xué)組成發(fā)生變化，未破壞材料本體結(jié)構(gòu)。
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